以絕對溫度將標準的黑體（像是鐵）加熱，隨著溫度的升高黑體呈現出 深紅～橘紅～橙
黃～白～淡藍～藍等，可見光領域的色溫變化，若某光源的光色跟黑體的光色相同時，
將黑體當時的絕對溫度稱為該光源的色溫，例如光源的色溫在3000Ｋ以下時，呈現一種
微紅色給人溫暖的感覺，當色溫在5000Ｋ以上時，呈現出來淡淡的藍色給人冰冷的感覺
，在3000K時，發出的色光和燈泡相同，我們便說燈泡的色溫是2800K。

在色溫的計算上，是以Kelvin為單位，黑體幅射的 0Kelvin=攝氏-273°C做為計算的起
點。

1. 高緯度的地區，色溫較高，所見到的顏色偏藍。
2. 低緯度的地區，色溫較低，所見到的顏色偏紅。

電磁波短的波長100nm～380nm的光叫做紫外線，
電磁波的波長780nm～3000nm的光叫做紅外線，
而波長在380nm～780nm之間電磁波的光是眼睛感
覺得到的光，這一部份的光稱為可視光。

可視光從波長短的到波長長的方向，是由紫色、
藍色、綠色、黃色、橙色、到紅色，比可視光更
短的電磁波為紫外線有殺菌之效果，此外更長的
電磁波為紅外線有加熱之效果，紫外線與紅外線
是眼睛看不見的但在人體、生物或工業領域或應
用範圍很廣泛。

將黃色的合成樹脂被膜被覆在玻璃管上，波長
500nm以下的光被抑制不會發射、完全切除，
除具有防紫外線的功能外，燈管在遭受不當外
力破壞損毀時，燈管的被膜具有防止飛散的功
效。

適用在存放感光材料的處所：IC半導體電子廠
、電漿液晶面板廠、Notebook、ＰＤＡ、數位
相機攝影機、ＴＦＴ、ＳＴＮ、OLED行動電話
製造廠、研發實驗室、無塵室等場所。

在半導體晶圓製造過程中，每個晶都必須經過擴散區 (Diffusion)，黃光區、蝕刻區、
離子植入區等許多道的作業程序。其中，在黃光區中，因為此區主要進行照相顯影縮小
的製程，故又稱為微影製程。

微影製程是在晶片上塗上一層薄薄的光阻劑，而後用360nm的紫外 線將線路圖顯影在晶
片上。由於光阻劑的光敏感範圍的波長介於200nm與500nm之間，因此環境中任何低於
500nm的光都必須去除。

通常黃光區的照明是採用黃色的螢光燈，其中低於500nm都被過 濾，由於在黃光區係使
用黃色照明，所有物體的顏色都改變了，同時顏色之間的辨識能力也隨之降低。建議採
用流明值較亮之黃光燈管，以增加整體照度減少燈具數量及降低成本。

‧具有光阻劑(Photo resistor)應用之產業皆是黃光燈管應用範圍；如：半導體微影
　製程、TFT面板Array段、彩色濾光片、軟硬式電路版..等產業。

‧光阻劑：由於光阻劑的光敏感範圍波長介於200nm500nm之間，因此製程環境中任何
　低於500nm的光波都必須去除，以防影響產品製程。

‧由於黃光區使用黃色照明，物體顏色都會改變，同時顏色之間的辨識 能力也隨之降低。
　建議選用流明值較亮之黃光燈管，以增加整體照度減少燈具數量 及降低成本。